クローズアップ半導体

最先端半導体の研究開発は、回路線幅２ナノメートル（ナノは10億分の１）時代に突入した。微細化が加速する中、半導体製造に不可欠なフォトマスク（半導体回路の原版）の分野でも技術競争が激化している。日米３社が寡占するフォトマスクの外販市場で、テクセンドフォトマスク（東京都港区）は、最先端のＥＵＶマスクの2027年量産を足がかりに、シェア４割以上への引き上げを狙う。