メモリーに先端露光装置 SK、蘭ASMLに発注か

韓国半導体大手のSKハイニックスが、最先端の極端紫外線(EUV)を使った量産用露光装置をDRAM製造向けに投入する計画だ。従来の技術に比べて作業工程を大幅に短縮できるだけでなく、超小型半導体を短時間で生産でき、コスト削減にも寄与するという。このほどオランダのA…

関連国・地域: 韓国
関連業種: IT・通信


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